GP200系列是一款完全压力不敏感的基于压力的质量流量控制器，专为半导体制造中的先进蚀刻和沉积工艺而设计。即使在输送低蒸气压工艺气体时也能提供准确的工艺气体输送。降低了气体输送系统的复杂性和拥有成本，因为它消除了对压力调节器和传感器等组件的需求。

• 较低的入口压力操作
• 下游阀结构
• 匹配的瞬态响应
• 零泄漏控制阀
• 本地显示指示流量、温度、压力和网络地址
• 通过消除匹配和补偿两个独立压力传感器的要求，GP200 差压技术降低了测量不确定性，从而提高了精度、可重复性和漂移性能。
• 由于 GP200 差压传感器专门针对低压差测量进行了优化，现在使用 P-MFC 可以在较低的入口压力下实现更安全的工厂操作。
• 下游阀门结构确保精度独立于下游压力，使流量能够在高达 1200 Torr 的压力下输送。快速关闭阀解决了非生产性配方等待时间或“尾部效应”，这在上游 MFC 阀门设计中可见，需要额外的时间来排出其内部气体体积。
• 快、高度可重复的上升和下降流动稳定时间可在先进的高循环沉积和蚀刻工艺中实现更严格的工艺控制。
• 阀门关闭性能提高 100 倍
• 借助 MultiFlo TM，MFC 满量程流量范围通常可以按 3:1 的比例重新缩小，而不会影响规格的精度、量程比或泄漏，从而实现工艺和库存灵活性
• 方便的用户显示和独立的诊断/服务端口有助于设备安装、监控和故障排除

性能：

• 流量范围（满量程）：3 sccm - 50,000 sccm
• 准确性：

零泄漏阀：<±1％S.P.（5-100％F.S.）

<±0.05％F。S.（0.5-5％F.S.）

金属密封阀：<±1％S.P.（5-100％F.S.）

<±0.05％F。S.（2-5％F.S.）

• 可重复性：<±0.15％S.P.
• 响应时间：280±20 ms匹配的瞬态响应，对于任何上升或下降的非零设定点
• 多气和范围可配置性：MultiFlo标准
• 控制范围：

零泄漏阀：0.5-100％F.S。

金属密封阀：2-100％F.S。

• 零稳定性：<±0.15％F.S每年
• 流动温度系数：

零：0.005％F.S 每°C

跨度：0.05％S.P.每°C

机械参数：

• 密封材料：金属
• 纯度 /表面饰面：5µ inch Ra avg
• 接液材料：316L

Hastelloy C-22

316/316L Stainless Steel

304 Stainless Steel

KM-45

PCTFE

• 阀门选项：通常关闭
• max温度：60℃
• 压差范围：

min：7 psid

max：50 psid

• max压力：150 psia